안녕하십니까,

이곳 인터넷 화학공학을 통해 항상 많은 공부를 하고 있는 화공 엔지니어입니다.

최근 공정 개선을 해야되는 부분이 생겼는데, 몇가지 아이디어는 있으나,, 해결이 어려울 것 같아 여기 질문을 남깁니다.

1. 기존: Pump 기준으로 NPSHa가 낮고,후속 공정으로의 정량이송을 위해 Screw Type Pump가 설치되어 있음

          - 후속 공정은 PFR(Plug Flow Reactor)로 제품 품질은 유량(=유속)에 민감하게 반응함(체류시간)

          - Screw Pump는 Speed Contol이 가능하여서, 토출유량 Set값에 따라 Speed Control 중

          - 실제 공정 유량값은 Set 값의 +/- 2% 이내로 Control

          - Pump Suction Drum은 Saturated 상태이며 압력은 Normal Contidion에서 2% 수준의 Hunting이 있음

          - PFR Out 배관에는 PIC Control Valve가 설치되어 압력을 일정하게 유지함

2. 질문사항: 위와 같은 상황에서 Centrifugal Type Pump를 이용하여 정량이송 및 Discharge 압력을 일정하게 유지 하려면 어떻게 해야 가능할 지 궁금합니다.

(보통 Pump Discharge에 설치된 Control Valve를 LIC / PIC / FIC 중 1개로 Control 하는 것으로 아는데,, 이경우는

FIC&PIC 두가지를 만족해야 합니다..)

 - NPSHa가 낮은 것은 반응기 위치를 상부로 이동하는 것으로 수정하거나, Inert Gas를 주입하는 방식으로 해결가능할 것같습니다.