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반도체 공정중의 농도 변환계산

글쓴이 : 이상근 고유ID : 이상근 날짜 : 00-00-00 00:00 조회 : 13913

반도체 공정에서 NF3등의 게스를 연소에 의해 처리 하고 다시 물로 분사하여 처리 하면 HF화 되는데 이때 NF3의 사용량에 따라서 HF의 농도가 어떻게 변화하는지 알고 싶습니다. PH sensor로 측정을 하면 PH2 정도 나오는데 이때 저희는 중화제로 NaOH 25% 짜리를 사용하고 있습니다.
PH2를 PH7(중성)으로 만들려고 하면 NaOH사용량을 얼마로 하면되는지 계산 방법을 알고 싶습니다. 탱크 내의 온도는 약35도시 정도 유지하고 있습니다.
감사합니다.

Stefano Stefano

39-08-02 00:00

(1) NF3 + H -->NF2 + HF 라는 반응이라면 NF3량과 같은 양의 HF가 발생될 것이므로 직접 비례하겠지요.

(2) (pH) = -log (H+ 농도, g-mol/L)

따라서 (H+농도) = 10^(-pH)

pH=2면 H+ 농도는 10^-2 g-mol/L......(1)
pH=7이면 H+ 농도는 10^-7 g-mol/L......(2)

그러므로 (1)과 (2)의 농도차이 만큼 NaOH의 양을 더 넣어 주면 H+가 OH-와 중화되어 중성을 나타내게 될 것입니다.