¾È³çÇϼ¼¿ä.
13.56MHz RF Plasma¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© waferÀ§¿¡ SiO2¸¦ ÁõÂøÇϴµ¥ ±Ã±ÝÇÑ Á¡ÀÌ ÀÖ¾î Áú¹®µå¸³´Ï´Ù.
SiO2 ÁõÂøÀ» ½Ãų ¶§ è¹ö ³» ¾ç±Ø°ú À½±Ø »çÀÌ¿¡ Wafer¸¦ µÎ°í ÁõÂøÀ» ½ÃÅ°°Ô µÇ´Âµ¥, ¾ç±Ø°ú À½±ØÀÇ °Å¸®°¡ ´Þ¶óÁö¸é ÁõÂø µÎ²²³ª ±âŸ Ư¼ºµéÀÌ ´Þ¶óÁý´Ï´Ù. ±× ÀÌÀ¯°¡ ¹«¾ù¶§¹®ÀÎÁö¿ä?
è¹ö ³»ºÎ´Â Áø°øÀ̸ç PECVD °øÁ¤ÀÔ´Ï´Ù.
è¹öÀÇ ºÎÇÇ´Â º¯È°¡ ¾ø°í ´ÜÁö Àü±ØÀ» µÑ·¯½Î´Â ¼¼¶ó¹Í ¼ÒÀçÀÇ µÎ²²°¡ º¯ÇÔÀ¸·ÎÇؼ ±Ø°úÀÇ °Å¸®°¡ ´Þ¶óÁý´Ï´Ù.
¸»·Î ¼³¸íÇϱⰡ ±î´Ù·Î¿ö °£´ÜÈ÷ ±×¸²À» ±×·Á ÆÄÀÏ Ã·ºÎÇÏ¿À´Ï °ËÅä ºÎŹµå¸³´Ï´Ù.
Ç×»ó °¨»çÇÕ´Ï´Ù.