안녕하십니까. 수소 폭발 위험성 관련해서 질문 드립니다.
현재 반도체 공정(ALD-TiN)에서 TiCl4, NH3, H2, NF3 등과 같은 gas를 사용하고 있습니다.
수소의 농도를 LFL 이하로 관리해 주면 폭발의 위험성은 없다고 생각되기는 하지만..
H2와 NF3가 만났을 때나 다른 gas와 만났을 때 폭발하거나 연소의 위험성이 있는지 문의 드립니다.
NF3는 Plasma를 이용하여 F Radical 형태로 공급하고 있습니다.
공정 조건은 아래와 같습니다.
H2: 10 slm
NF3: 3 slm
NH3: 5 slm
TiCl4: 0.5 slm
공정압력: 약 1 torr
위와 같은 조건에서 수소 폭발이나 연소의 위험성이 있나요?
