ÀÚµ¿·Î±×ÀÎ
ÄÁÅÙÃ÷ | contents
ÀϹݰԽÃÆÇ
Q&A°Ô½ÃÆÇ
°øÇÐ S/W
½ºÅ͵ð | study
´ÜÀ§È¯»ê
³óµµ°è»ê
ÀϹÝÈ­ÇÐ
È­°øÀϹÝ
È­°ø½Ç¹«

   
  CVD³»ÀÇ ¿Âµµº¯È­ ¹× ¾Ð·Â º¯È­ µî¿¡ ´ëÇÑ ¸ðÀÇ ½ÇÇè ÇÁ·Î±×·¥
  ±Û¾´ÀÌ : ¹Î¿õ±â   °íÀ¯ID : ¹Î¿õ±â     ³¯Â¥ : 00-00-00 00:00     Á¶È¸ : 6565    
CVD(Chemical Vapor Deposition)ÀåÄ¡³» ¿Âµµ ¹× ¾Ð·Â µîÀÇ º¯È­¿¡ ´ëÇÑ ¸ðÀÇ ½ÇÇè ÇÁ·Î±×·¥Àº ¾ø³ª¿ä?

¾Ë°í °è½ÅºÐÀº ´äº¯ºÎŹµå¸³´Ï´Ù.

Stefano Stefano   39-08-02 00:00
¼³¸íÀ» °çµé¿© ±¸Ã¼ÀûÀ¸·Î Áú¹®ÇØ¾ß ´©±º°¡ ´äÀ» ÇØÁÙ ¼ö ÀÖÀ» °Í °°½À´Ï´Ù. 
   

Copyright 1999.07.10-Now ChemEng.co.kr & 3D System Engineering. (mail : ykjang@naver.com, call 010-4456-8090)