학교를 졸업하고 잉여짓을 하다

어렵게 취직을 하였는데요.

 

전공은 컴공을 하였으나

 

지금은 전공과는 전혀 다른 반도체 관련 회사에 근무중입니다.

 

완전 일자무식입죠.

 

관련 전공을 졸업한 동기들 사이에 살아남기가 너무 힘겹네요.

 

그래서 질문 드립니다.

 

반도체 공정중

 

ETCH METAL CLEAN IMP DIFF PHOTO CVD CMP 공정 특징과

 

공정에서 사용되는 가스를 알고 싶습니다.

 

현업에 근무하시는분들이나 반도체 관련 지식이 계신분들

 

도와주세요 ㅠ,ㅠ