안녕하세요~

반도체 설비내 챔버에서 Gas가 빠져나오는 포라인 쪽에 저희 제품이 설치 되어있습니다.

 

챔버에 사용하는 가스는 케리어 가스로 Ar, 그리고 cleaning가스로 NF3, 그리고 공정 진행중에는 Si, C, O, N이 혼합된(자세한 성분및 성분비 알수없음) 가스가 사용되고 있습니다.

 

공정온도는 400도 포라인쪽 온도는 80도로 유지되며 저희쪽 제품은 40도 정도가 유지되는 상태입니다.

 

저희쪽 제품은 포라인에서 나오는 가스를 플라즈마 반응을 일으켜 가스 성분을 분석하는 제품이며 세라믹튜브로 이루어져있습니다. 그런데 이상하게 저희쪽 제품쪽에만 노란색 파우더가 쌓입니다.

이게 어떤 반응으로 쌓이는건지, 온도 문제인지, 아님 저희쪽에서 발생시키는 플라즈마에 의해 어떤 결합이 발생하는 건지 종잡을수가 없어서 이렇게 질문을 드립니다.

 

참고로 파우더 성분분석을 한 결과 C(68%), O(15%), Si(15%), F(2%)정도가 나왔습니다.

 

답변 부탁드리겠습니다~ 수고하세요