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N2, SiH4 플라즈마 분해 시 에너지 문의
글쓴이
:
초보맨
고유ID
: nih96
날짜
: 15-09-23 16:48
조회
: 3967
안녕하세요.
N2, SiH4를 플라즈마 에너지를 이용하여 분해한 후 Si3N4 thin film으로 생성하고자 할때
반응가스량이 사용되는 에너지 대비 너무 커서 분해가 제대로 되지 않는 듯 합니다.
혹시 N2, SiH4를 분해하는데 필요한 에너지가 적정한지 알아보가 하는데
N2, SiH4 1 분자를 분해하는 에너지가 어느정도 필요한지 계산해 낼 수 있을지요?
고수님들 조언 부탁 드립니다.
감사합니다.
스테파노
Stefano
15-09-24 18:57
반응에 의해 필요한 (Net) 엔탈피는 반응물질과 생성물질의 엔탈피 밸런스에 의해 결정될 수 있지만 반응이 진행될 수 있도록 plasma로 활성화 시키는 열량을 공급하지 못하면 반응이 진행되지 않을 것입니다.
따라서 N2가 SiH4와 반응하여 활성화 과정에서 생성되는 중간 생성물을 얻기 위한 에너지를 일단 공급해야 할 것인데 중간물질의 상태를 기준으로 데이터베이스를 찾아보도록 하세요.
반응에 의해 필요한 (Net) 엔탈피는 반응물질과 생성물질의 엔탈피 밸런스에 의해 결정될 수 있지만 반응이 진행될 수 있도록 plasma로 활성화 시키는 열량을 공급하지 못하면 반응이 진행되지 않을 것입니다. 따라서 N2가 SiH4와 반응하여 활성화 과정에서 생성되는 중간 생성물을 얻기 위한 에너지를 일단 공급해야 할 것인데 중간물질의 상태를 기준으로 데이터베이스를 찾아보도록 하세요.
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