¾È³çÇϼ¼¿ä. NF3 Plasma Cleaning °øÁ¤½Ã ¹ß¿ÇÏ¿© Tank ³» ¿Âµµ »ó½Â ÀÌÀ¯°¡ ±Ã±ÝÇÏ¿© ±ÛÀ» ¿Ã¸³´Ï´Ù.
NF3°¡ ÀÌ¿ÂÈ µÇ¾î
2NF3 --------------->N2 + 3F2 µÇ´Â°É ¾Ë ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
Chamber³»¿¡ ÀÖ´Â ÀÜ·ù Gas¿Í F- ÀÌ¿ÂÀÌ ¹ÝÀÀÇÏ¿© ¹ß¿ÇÑ°ÍÀ¸·Î º¸ÀÔ´Ï´Ù.
¿¹»óµÇ´Â ÇÕ¼º°¡½º·Î´Â SiF4, SiH4, Leak·Î ÀÎÇÑ Air À¯ÀÔÀ¸·Î ÀÎÇÑ OF2, COF2°¡ ÀÖÀ»°Å¶ó ¿¹»óµË´Ï´Ù.
wet tank¿¡¼ ¿Âµµ°¡ ±âÁ¸ 30~40µµ¿¡¼ 80µµ·Î »ó½Â µÇ´Â ÀÌÀ¯°¡ Á¤¸» ±Ã±ÝÇÕ´Ï´Ù. ¹°°ú ¸¸³ª¼ ¾î¶»°Ô ¹ß¿ÇÏ´ÂÁö ±Ã±Ý.
NF3ÀÇ À¯·® Áõ°¡·Î ÀÎÇÑ ¿Âµµ »ó½ÂÀÇ ¿øÀεµ ÀÖ½À´Ï´Ù. ¾î´À ¹°ÁúÀÌ ¹ß¿ÇÏ¿© ¿Âµµ¸¦ ³ôÀÌ´ÂÁö ±à±ÝÇÕ´Ï´Ù.
ÀÌ¿ÂÈ ½ÃÅ°´Â Plasma¿Ü¿¡ ¿·Î ºÐÇسª´Â °Í¿¡¼ÀÇ ¿Âµµº¯È´Â Å©Áö ¾ÊÀºµ¥ plasma ÀÌ¿ë½Ã Tank¿Âµµ »ó½Â ±Ã±ÝÇÕ´Ï´Ù.
NF3 À¯·®ÀÇ Áõ°¡·Î ÀÎÇÑ ºÒ²É »ö±òÀÌ ´Ù¸¥°ÍÀ» ¾Ë ¼ö ÀÖ¾ú½À´Ï´Ù.
µÎ¼¾øÀÌ ±ÛÀ» ¿Ã·Á Á˼ÛÇÕ´Ï´Ù.
±Ã±ÝÇÑ ÀÌÀ¯¸¦ ²À ¾Ë°í ½Í½À´Ï´Ù.
¹ß¿¹ÝÀÀÇÏ¿© ¿ÂµµÀÇ »ó½ÂÀÌÀ¯¸¦ ¾Ë¸é ¹ß¿½Ã ³ª¿À´Â ¿£Å»ÇÇ(¿¡³ÊÁö)¿Í Ä®·Î¸®µµ Á» ¾Ë°í ½Í½À´Ï´Ù.
°¨»çÇÕ´Ï´Ù