ÀÚµ¿·Î±×ÀÎ
ÄÁÅÙÃ÷ | contents
ÀϹݰԽÃÆÇ
Q&A°Ô½ÃÆÇ
°øÇÐ S/W
½ºÅ͵ð | study
´ÜÀ§È¯»ê
³óµµ°è»ê
ÀϹÝÈ­ÇÐ
È­°øÀϹÝ
È­°ø½Ç¹«

   
  [Re] methylphenylsiliconÀÇ ¹°¼º ¾Ë¼ö ÀÖÀ»±î¿ä?
  ±Û¾´ÀÌ : ÀÌÀÀÁØ   °íÀ¯ID : ÀÌÀÀÁØ     ³¯Â¥ : 00-00-00 00:00     Á¶È¸ : 5118    
ÁöÀ±Èñ´ÔÀÇ ±ÛÀÔ´Ï´Ù.

>> siliconÀÇ ÇÑÁ¾·ùÀε¥..ã¾Æº¸¾Æµµ B.P°¡ ³ª¿ÍÀÖÁö ¾Ê¾Æ¼­¿ä..
>>
>> ºÎŹµå¸³´Ï´Ù

precursor¶ó°í CVD(Chemical Vapor Deposition)ÇÒ¶§ ¾²´Â gas¶ó´Âµ¥¿ä.  »ó¿Â¿¡¼­´Â Liguid ÇüÅÂ, pressureÀ» ³·Ãç ¿Âµµ¸¦ ³ô¿© gas ÇüÅ·Π³ª¿Â´Ù´Â ±º¿ä

   

Copyright 1999.07.10-Now ChemEng.co.kr & 3D System Engineering. (mail : ykjang@naver.com, call 010-4456-8090)