| 전자공업에 사용되는 화학반응 |
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3D System Engineering |
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Rev. 0 / 2007.5.12 |
| No |
Chemistry |
Material
(*1) |
No. Moles
(*2) |
Heat of *4
Formation |
Remarks |
| 1 |
2COCl2+CH4+3O2---->2Cl2+3CO2+2H2O |
COCl2 |
-2 |
-220.08 |
Ref: B |
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CH4 |
-1 |
-17.889 |
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O2 |
-3 |
0 |
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Cl2 |
2 |
0 |
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CO2 |
3 |
-94.0518 |
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| |
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H2O(gas) |
2 |
-59.7979 |
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| |
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Total(*3) |
1 |
56.2978 |
Endothermic(흡열반응) |
| 2 |
SIF4+CH4+3O2---->SiO2+2F2+CO2+2H2O |
SiF4 |
-1 |
-370 |
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CH4 |
-1 |
-17.889 |
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O2 |
-3 |
0 |
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| |
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SiO2 |
1 |
-202.46 |
Quartz인경우 -203.35 |
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|
F2 |
2 |
0 |
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|
CO2 |
1 |
-94.0518 |
|
| |
|
H2O(gas) |
2 |
-59.7979 |
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| |
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Total(*3) |
1 |
-28.2186 |
Exothermic(발열반응) |
| 3 |
2SiH4+CH4+4O2---->SiO2+CO2+4H2O |
SiH4 |
-2 |
-14.8 |
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CH4 |
-1 |
-17.889 |
|
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|
O2 |
-4 |
0 |
|
| |
|
SiO2 |
1 |
-202.46 |
|
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|
CO2 |
1 |
-94.0518 |
|
| |
|
H2O(gas) |
4 |
-59.7979 |
|
| |
|
Total(*3) |
-1 |
-488.214 |
Exothermic(발열반응) |
| 4 |
2BF3+2CH4+4O2---->B2O3+6HF+2CO2+H2O |
BF3 |
-2 |
-265.2 |
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CH4 |
-2 |
-17.889 |
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|
O2 |
-4 |
0 |
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B2O3 |
1 |
-297.6 |
Crystal인 경우 -302 |
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HF(Aq.Soln) |
6 |
-75.75 |
Gas인경우 -64.2 |
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CO2 |
2 |
-94.0518 |
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|
H2O(gas) |
1 |
-59.7979 |
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Total(*3) |
2 |
-433.824 |
Exothermic(발열반응) |
| *Notes |
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| 1 |
Yellow Color: 반응물, Orange Color:생성물 |
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| 2 |
Minus Value: 반응물 몰수, Plus Value:생성물 몰수 |
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| 3 |
Total No. Of Moles: 증가 몰수; Heat of Reaction: 음수값:발열반응, 양수값:흡열반응 |
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| 4 |
Heat of Formation값은 각 물질 1g-mole 생성반응에서의 엔탈피 변화, 음수값:발열, 양수값:흡열; |
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단원자분자인 경우(예 O2, Cl2, F2, 등)의 생성열은 0임. |
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| 5 |
References |
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| A |
Reference B를 제외한 참고자료는 모두 Perry's Chemical Engineers' Handbook(6th ed.)의 자료. |
| B |
http://webbook.nist.gov/cgi/cbook.cgi?ID=C75445&Units=SI&Mask=1#Thermo-Gas |
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